|
|
||||||||||||||||||||||||||||||||||
| ||||||||||||||||||||||||||||||||||
MCIK2005AnnualSeminar-1-Day1.pdf|
Re: MCIK 2005 Annual Seminar on Rheology & Surface Chemistry with Special Focus on Semiconductor, Liquid Photo Resistors, Surfactants and Display Pannels (PDP, PLED, Colour Filters etc.) Applications Main topics to be discussed: Steady shear rheology, Thixotropy, Dynamic Oscillatory Measurements, Creep and Recovery, Normal Stress Difference N1 and N2, In-Line Process Viscomerty, Elongational Rheology, Optical Rheology, Contact Angle & Surface Energy, Surface Tension, Surfactants, Steric Stabilization, Dispersibility, DLVO, Zeta Potential and Surface Adhesion etc. 안녕 하십니까? MCIK 의 Application Support Team 입니다. 2005 MCIK Annual Seminar 를 아래와 같이 개최 하오니 참여를 희망하시는 분들께서는 첨부된 신청서를 MCIK에 팩스 전송 부탁 드립니다: -------------------------------------------------------------------------------- *Day-1: MCIK Annual Seminar 1-A 제목: Fundamentals of Rheology and its Siginificance on Electronic Coating and Printing Appliactions Speaker: Dr. S. R. Kim (MCIK) 일시 및 장소: 2005년 1월 18일 화요일 서울 강남구 삼성동 COEX Seminar Hall 403호 접수 인원: 등록 선착순 60명. *Day-2: MCIK Annual Seminar 1-B 제목: Fundamentals of Surface Chemistry and its Siginificance on Electronic Coating and Printing Appliactions / Surface Chemical Aspect of Rheology of Particulate Systems Speaker; Mr. Torsten Holz (DataPhysics GmbH, Germany) / Dr. S.R. Kim (MCIK) 일시 및 장소: 2005년 1월 19일 수요일 서울 강남구 삼성동 COEX Seminar Hall 403호 접수 인원: 등록 선착순 60명. -------------------------------------------------------------------------------- 건강하시고 즐거운 연말연시 보내시길 바랍니다. |
|
